And so repeating what I said before, we have a dense toroidal plasma in the center that spreads out to the wafer, and there's a number of advantages now of the ICP or HDP mode compared to the CCP mode, in that we can operate one at lower pressures, and we get the separation now of the plasma density and the energy, higher plasma density and a larger range of ion energy.Và vì vậy lặp lại những gì tôi đã nói trước đó, chúng ta có một plasma hình xuyến dày đặc ở trung tâm lan ra wafer, và có một số lợi thế của chế độ ICP hoặc HDP so với chế độ CCP, đó là chúng ta có thể hoạt động ở áp suất thấp hơn, và chúng ta có sự tách